저차원 소재 및 소자 연구실(LDMD) > 개별연구실

Atomic Layer Deposition

• 자연대5호관(35호관)

• Al₂O₃, HfO₂ 증착 가능

• 기체 전구체를 이용해 원자 단위로 박막을 정밀하게 성장시키는 장비

• 반도체 소자 제조, 나노소재 제조 등 고균일성과 높은 제어성을 요구하는 분야

X-Ray Diffractometer

• 자연대5호관(35호관)

• 40kW, 15mA, 0.6kW

• 물질에 X선을 조사하여 회절 패턴을 측정하여 결정 구조, 상, 격자 상수 등을 분석하는 장비

• 소재 개발, 반도체, 배터리, 세라믹 등 다양한 재료 연구와 품질을 평가하는 분야

Raman Spectroscopy

• 자연대5호관(35호관)

• 815×660×540mm

• 레이저를 이용해 물질의 분자 진동이나 격자 진동을 분석하는 장비

• 재료공학, 생명과학 분야
• 물질의 화학적 조성, 결정성, 응력, 결함 분석 등에 활용

Spectrofluorophotometer

• 자연대5호관(35호관)

• 액체 샘플 측정 가능

• 시료가 빛을 방출하는 특성을 분석해 전자적 성질을 평가하는 장비

• 반도체, 나노소재, 광전자 소자 개발 분야

Spectrofluorophotometer

• 자연대5호관(35호관)

• 분말, 액체 샘플 및 양자점 측정 가능

• 시료가 빛을 방출하는 특성을 분석해 전자적 성질을 평가하는 장비

• 반도체, 나노소재, 양자점 연구 및 광전자 소자 개발 분야

Optical Microscope

• 자연대5호관(35호관)

• 배율 범위 50× ~ 1000×

• 가시광선을 이용해 시료를 확대 관찰하는 장비

• 재료과학, 전자 소자 분야
• 재료 표면, 미세 결함 등 미시적 구조를 시각적으로 분석

Microwave Reactor

• 자연대5호관(35호관)

• 최고온도 230 °C, 최대압력 20 bar, 용량 ~18ml

• 마이크로파를 이용해 시료를 신속하고 균일하게 가열하여 화학 반응을 촉진하는 장비

• 신소재 합성, 유기화학, 나노소재 합성 등

Chemical Vapor Deposition

• 자연대5호관(35호관)

• 가스 H₂, N₂, H₂S / 상압 조건에서 실험 가능

• 기체 상태의 전구체를 열을 이용해서 박막으로 증착하는 장비

• 반도체, 디스플레이, 태양전지, 나노소재 합성 등

E-beam evaporator

• 자연대5호관(35호관)

• 두께 및 증착 비율 조정 가능

• 전자빔을 이용해 금속이나 산화물 등의 소재를 고온으로 증발시켜 박막을 형성하는 장비

• 반도체 소자 제작, 광학 코팅, 센서 제조, 나노기술 연구 등 다양한 정밀 박막 증착 분야

Residual Gas Analyzer

• 자연대5호관(35호관)

• 300mm×300mm

• 진공 챔버 내부의 미량 가스를 질량분석법으로 정밀하게 검출하고 분석하는 장비

• 진공 시스템의 오염도 평가, 반응 가스 모니터링 등 재료 연구, 진공 장비 유지 관리 분야

Metal Organic Chemical Vapor Deposition

• 자연대5호관(35호관)

• 2000mm×1380mm

• 금속 유기 화합물을 전구체로 사용하여 고체 박막을 성장시키는 장비

• LED, 반도체 소자, 고주파 소자, 전력 소자용 고품질 박막 제조 분야

Sputtering

• 자연대5호관(35호관)

• 보유타겟 Mo, W, Ni

• 플라즈마 이온이 타겟을 때려 타겟 물질을 미세하게 튀어내어 기판에 얇게 증착하는 장비

• 반도체, 디스플레이, 태양전지, 금속 박막 코팅 등

Rapid Thermal Processing

• 자연대5호관(35호관)

• 1250℃

• 기판을 급속 가열 또는 냉각하는 열처리 장비

• 반도체 공정(어닐링, 도핑 활성화), 박막 결정화, 접합 형성 등

Plasma-Chemical Vapor Deposition

• 자연대5호관(35호관)

• 가스 H₂, N₂, H₂S, CH₄ / 스로틀 밸브로 압력 조절 가능 / 플라즈마 형성

• 플라즈마를 이용하여 박막을 증착할 수 있는 화학 기상 증착 장비

• 반도체 박막 제조, 디스플레이, 태양전지, 센서, 보호코팅 등

Graphene-Chemical Vapor Deposition

• 자연대5호관(35호관)

• 가스 H₂, N₂, CH₄

• 기체 상태의 전구체를 열을 이용해서 박막으로 증착하는 장비

• 그래핀 소재 합성, 박막 증착 박막 제조 분야

Electrochemical Workstation

• 자연대5호관(35호관)

• 최대전류 ±5A, 최대전압 ±10V, 전류 정밀도 0.6aA, 임피던스 기본 주파수 10uHz ~ 8MHz

• LSV, CV, EIS 등 다양한 전기화학적 실험 및 분석 장비

• 수전해 촉매 평가, 배터리 연구, 센서 개발, 부식 연구 등 전기화학적 분야

Probe Station

• 자연대5호관(35호관)

• 온도 조절 가능

• 미세전극을 이용해 반도체 소자나 재료의 전기적 특성을 측정하는 장비

• 반도체 소자 개발, 재료 특성 평가, 전기적 신뢰성 테스트 등

Thermal Evaporator

• 자연대5호관(35호관)

• 증착 소스에 따른 다양한 박막 증착 가능

• 저항 가열을 이용해 금속이나 유기물을 기화시켜 기판 위에 얇은 박막을 형성하는 장비

• 반도체 전극, 광학 코팅, OLED 및 태양전지 제조 등 박막 소자 제작 분야